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近日，中微半导体设备(上海)股份有限公司推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex CW。该设备可灵活配置多达五个双反应台反应腔(十个反应台)，每个反应腔可以同时加工两片晶圆，实现更高的生产效率。(科创板日报)

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